Moda y Belleza

Diseñadores chilenos en la Semana de la Moda en Nueva York

Un evento paralelo y perteneciente al New York Fahion Week será el que recibirá los diseños de uno de los participantes de este concurso.

Las ventajas que entrega la tecnología al mundo de la moda son variadas. Hace un tiempo Vogue nos sorprendió con una producción realizada con Google glass, luego vimos que un vestido podía conectarse a Twitter, e incluso presenciamos la creación de un esmalte de uñas que cambia de color ante el consumo de drogas que facilitan la violación.

Hoy nos encontramos con las telas sublimadas. Una posibilidad que rompe el paradigma, y permite convertir al consumidor en creador de su propio producto, a través de la elección de patrones y diseños que pueden tener las telas del vestuario que desea.

En ese sentido, la marca Epson está buscando al representante de nuestro país, quien podrá exhibir sus mejores creaciones realizadas con telas a partir de la tecnología de sublimación digital, algo que la empresa ofrece a los diseñadores.

11 son los representantes latinoamericanos que se darán cita en la Semana de la Moda de Nueva York, quienes tendrán la oportunidad de realizar íntegramente una colección de vestuario a través de una impresora de sublimación. El método ha logrado grandes resultados, logrando generar telas con colores definidos y llamativos, además de poder realizar estampados finos, detallados y de primera calidad.

En una reunión realizada por la marca, se dio cita a 11 diseñadores nacionales: Pato Moreno, Israel Camus, Marco Antonio Farías, Karyn Coo, Ricardo Oyarzún, Heri Levi, Claudio Mansilla, Matías Hernán, Paulo Mendez, Miguel Ángel Guzman y Millaray Palma, quienes serán los encargados de participar en el concurso que podría llevarlos al certamen.

Enla primera fase del sorteo, se recibirán dos bocetos de sus colecciones otoño invierno 2015. Un jurado de la compañía seleccionará a dos diseñadores para que sus trabajos sean enviados a Estados Unidos, donde finalmente otro jurado escogerá al representante nacional.

El ganador del concurso podrá viajar a Nueva York en febrero del próximo año a representar a Chile en un evento paralelo al NY Fashion Week, donde se darán cita los otros 11 diseñadores latinoamericanos.

Tags

Lo Último


Te recomendamos