Luego de su participación en Project Runway Latinoamérica en 2013, Matías Hernán despegó y nadie lo pudo parar. Haber ganado el primer lugar en este concurso fue una plataforma para mostrar todo su talento, trabajo y creatividad, y ahora, el diseñador chileno pasó a las grandes ligas.
Matías Hernán viajó a Nueva York para presentar una colección cápsula en el Digital Couture Project 2016 de Epson, exhibición que se enmarca en uno de los eventos más importantes de la industria de la moda: la New York Fashion Week (temporada Otoño/Invierno 2016).
Sus diseños, basados en la temática “Amor y Paz en la Moda” fueron elaborados a través de la técnica de sublimación, un proceso que reinventa la forma de hacer moda. Se trata de transferir una imagen de un papel a la fibra sintética, a través de un proceso químico que se activa con la aplicación de calor.
Recomendados
Shakira domina el arte de los baggy pants y tenis como una diosa y así puedes imitar su...
Tatuajes inspirados en las fases lunares para conectar con tu intuición y feminidad
Moda: cómo combinar leggins con tenis para un look elegante y cómodo en la primavera a los 30
En el showroom en que el diseñador chileno presentó sus cuatro looks, también estaban presentes las creaciones de María de Lourdes Ramírez (México), Ludmila Osikovsky (Argentina) y Carmen Artica (Perú), entre otros.
Las prendas en base a poliéster de Matías Hernán jugaban con los colores, creando un efecto en degradé muy bonito. Como contó el diseñador en una entrevista con Viste La Calle, su inspiración fue transmitir, con los colores, mucha paz y alegría.
En cada uno de looks estaba ese sello futurista característico, combinado con zapatos de plataforma que también fueron creados a través de la sublimación. En su cuenta de Instagram, Matías Hernán compartió imágenes y videos que muestran la sesión de fotos previa al showroom, el backstage y algunos bosquejos.